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高純度氫氣發生器與氣相外延生長技術的關系

日期:2021-12-21瀏覽:358次

   高純度氫氣發生器可為國產、進口氣相色譜提供穩定的氫氣氣源,操作簡單,只需啟動電源開關即可產氣,輸出壓力穩定,流量由LED數碼顯示,直觀醒目。日常使用時只需補充蒸餾水,可連續使用也可間斷使用。儲液、電解制氫、排氧一體化,池溫低,壽命長久。氫氣作為一種綠色能源介質,可同時滿足資源、環境和可持續發展的要求,是其他燃氣所不能比擬的。氫氣發生器用氫氧火焰切割,以替代傳統連鑄坯切割技術,另外在使用氫氧火焰對原設備進行簡易改造,投入較少。
  氣相外延生長技術是在VPE基礎上發展起來的,是以族元素的有機化合物和氫化物等作為晶體生長源材料,以熱分解反應方式在襯底上進行氣相外延,生長各種-V族化合物半導體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。
  在氣相外延生長技術中,氫氣可以擔當載氣,將III(II)金屬有機物和V(VI)族氫化物以及摻雜源攜帶運輸到反應室內,為化學沉積反應和薄膜生長提供基礎,要求氫氣純度≥99.999%(≥5N),壓力為4-7bar,而高純度氫氣發生器所產氫氣可以符合這一領域的用氣需求。同時,氫氣純度穩定不變,減少了氫氣純度波動對設備的影響。
  此外,設備操作便捷,保障氫氣供應連續不間斷,用戶無需擔心氫氣用完,也無需和高壓氣體鋼瓶接觸,發生器自動運行,無需額外人工操作。發生器自動偵測自身工作狀態和錯誤,一旦偵測異常即發生報警。

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